★2026年2月6日WEBオンライン開講。 合同会社アミコ・コンサルティング CEO　友安 昌幸氏から、生成AI・EV・脱炭素社会と世界情勢を支える半導体産業 ～現状と今後の展開・戦略～ のテーマについて解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★生成AIの登場により半導体需要は拡大し、EVも地球温暖化対策の柱として今後普及が進む見込みです。これらを支える半導体技術はスケーリングの限界を迎え、構造や材料の革新が求められる新たな局面に入っています。本講座では、こうした技術的・産業的変化を俯瞰し、既存企業や新規参入企業にとっての機会とリスクを整理。事業展開における判断材料となる視点を講演します。

★2026年2月10日WEBオンライン開講。東北大学 大学院工学研究科 教授　大兼 幹彦氏から、スピントロニクス磁気センサ（TMR）の基礎と開発動向、応用展開、社会実装 ～動作原理・応用展開、性能向上技術、将来展望～ のテーマについて解説する講座です。

■本講座の注目ポイント

★医療費増大やインフラ維持、エネルギー問題などの社会課題解決には超スマート社会の実現が求められ、その鍵となるのが量子センサである。中でもスピントロニクス磁気センサはTMR素子により室温でSQUID級性能を達成し、生体信号計測も可能である。磁気シールド不要で広範囲対応でき、医療・ヘルスケア、インフラ保全、エネルギー管理など多分野での応用が期待されており、本講演では基礎から最新技術、国家プロジェクトの社会実装を解説します。

★2026年2月19日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社　沢田　憲一　氏が半導体製造現場における品質管理技術・製品信頼性と実践知識について解説する講座です。

■注目ポイント

★半導体製造現場に求められるユーティリティ、品質管理、製品信頼性とは？

★生産活動の基本としての各項目を、QDCSの観点から最適化に向けた留意点をについて学ぶ事ができる！

★2026年2月24日WEBオンライン開講。株式会社ISTL 代表取締役　礒部 晶 氏から、 半導体製造におけるPFASの使用状況と規制の影響 ～各国の規制動向と現状の対応、PFAS処理と代替材料開発動向ほか～ のテーマについて解説する講座です。

■本講座の注目ポイント
★有機フッ素化合物（PFAS）は優れた特性から幅広く利用され、半導体製造でも多くの工程に不可欠です。しかし一部PFASの有害性が認められ、規制が強化されています。本セミナーでは欧州REACHによる包括規制の最新動向を中心に、半導体産業への影響を解説します。さらにPFAS使用工程や目的、分析・処理技術、代替技術の進展、装置・材料・半導体メーカー各社の対応状況を整理し、今後の課題と展望を解説します。

★2026年2月24日 元凸版印刷　NPOサーキットネットワーク　 理事　事務局長　 大久保 利一先生が半導体基板におけるめっき技術の基礎と材料技術・課題、特にめっき浴管理やトラブル対策について、じっくり解説するまたとない講座です。

★トコトンやさしい半導体パッケージとプリント配線板の材料の本や、トコトンやさしい半導体パッケージ実装と高密度実装の本の編著者である大久保先生により講座！

★本セミナーでは、電解銅めっき、無電解銅めっき、無電解Ni/Auめっきの基礎を整理するとともに、めっき添加剤の作用機構、電流密度分布と膜厚均一化の考え方を解説し、現場で役立つ実務的な理解を提供する。

★2026年2月24日WEBでオンライン開講。 電気通信大学　 新竹先生、東京科学大学　土方先生がそれぞれの立場で誘電エラストマーを用いた高分子アクチュエータ・E-Skin（電子人工皮膚）の開発とロボティクスへの応用・課題について解説する講座です。

■注目ポイント

★誘電エラストマーアクチュエータは、構造が単純で薄く軽量であり、応答性に優れ大きな変形を出力できるうえ、高い電気機械効率を有する、有望なソフトアクチュエータ技術！

★本講演では、誘電エラストマーアクチュエータの原理や特徴、主要な材料および製作・設計方法について説明するとともに、把持・操作デバイス、モバイルロボット、ウェアラブル・医療応用など、ロボティクスにおける多様な応用事例を紹介し、最新の研究動向と今後の展望についても述べる！

★2026年2月25日WEBオンライン開講。【東京大学： 藤原弘和氏】半導体メーカーでのデバイス開発経験を持つ講演者が、EUVリソグラフィ技術の原理や課題、レジスト材料について解説します。

■本講座の注目ポイント
　当日にご参加できない方は録画視聴が可能です。（2/25～3/11）
　本講演では、微細加工技術の基礎から始まり、フォトリソグラフィ技術の原理や特長、さらに最新のEUVリソグラフィ技術について、光と物質の相互作用に基づいて詳しく解説します。リソグラフィを学びたい方、レジスト材料開発に携わる方に向けた講座です。

★2026年2月26日WEBオンライン開講。神上コーポレーション株式会社 代表取締役　鈴木 崇司 氏から、熱対策 最新技術動向  ～回路と機構両側面からの放熱アプローチ、設計と対策、不具合事例と熱シミュレーション～ のテーマについて解説する講座です。

■本講座の注目ポイント
★ICT/IoT機器の増加に伴い、半導体の高性能化で発熱が増加し熱対策が重要となっています。ソフト制御は性能低下の懸念から回避傾向があり、基板・回路設計や機構・構造設計でのハード面対策が顧客満足度向上に直結します。最新の放熱材料や断熱技術を活用した提案も解説し、電子機器の熱設計を理論・設計技術・材料選定・不具合事例・CAE解析まで一貫して学べ、設計現場で即役立つ“熱設計の実践力”を身につけられる講座です。

★2026年2月27日WEBオンライン開講。【横浜国立大学：馬場氏】長年シリコンフォトニクス・光集積回路を研究している専門家が、基礎からファウンダリを活用した製作。最新の研究を解説する講座です。

■本講座の注目ポイント
　シリコンフォトニクスは、データ通信・AI・センサ分野を支える光集積回路技術として急速に発展しています。本講演では、光導波路・アクティブデバイスの設計から最新の研究開発まで、講師の数多くのファウンダリ経験を経験に基づいて解説します。これからシリコンフォトニクスを活用したい研究者・技術者に向けた講座です。

★2026年2月27日WEBでオンライン開講。 株式会社荏原製作所　 今井氏、株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ　 岩畑氏、三菱ケミカル株式会社　 竹下氏がそれぞれの立場で半導体製造における洗浄プロセスの基礎・各工程に適した洗浄剤と新規応用展開について解説する講座です。

■注目ポイント

★半導体3D化、接合、において欠かせない洗浄プロセスに注目し、なぜ洗浄が重要なのか、どのような課題があるのかを分かりやすく整理！

★Wafer to Wafer と Die to Wafer の違いや特徴にも触れながら、先端パッケージング技術の洗浄の基礎的な考え方を解説！