セミナー検索結果 10件中
★諸事情により日程を再調整いたしました。2025年10月31日開講。合同会社アミコ・コンサルティング CEO 友安 昌幸 先生(元東京エレクトロン株 Samsung Electronics 華為技術日本株式会社)が、ドライエッチングの基礎・最新技術動向と微細加工技術について解説します。
★長年にわたり半導体製造プロセス、特にドライエッチング技術の研究開発に従事し、基礎理論から最先端の量産プロセスにおける実務経験までを幅広く網羅した内容!
★複雑な技術内容を、具体的な事例や図解を交えながら、半導体製造に馴染みのない方でも直感的に理解できるよう丁寧に解説します。
★2025年10月31日WEBでオンライン開講。WEBでオンラインLive講義にどこからでも参加できます。第一人者の株式会社LXスタイル 代表取締役 杉田 正 氏のご講演。AI時代のデータセンターが抱える熱問題の現状・課題と冷却技術による対策動向および今後の展望についてご講演いただきます。
★サーバー高密度化と生成AI普及により、データセンターの熱負荷と電力消費は急増している!
★その中でも放熱・冷却システムは安定稼働だけでなく、電力コスト削減と環境規制対応の要となる。
★本講座では、省エネ型冷却技術の最新動向と産業界の課題解決策を理解するためのヒントとしたい。
★2025年11月5日WEBオンライン開講。BHオフィス 代表 大幸 秀成 氏(元 株式会社東芝)が、CMOSの基礎と応用・活用技術 ~特徴・基礎構造・設計・基本動作/機能・シミュレーションツールほか~ について解説する講座です。
■本講座の注目ポイント
★1970年代に登場したCMOSデバイスは現在の半導体製品の基礎技術として常に進化しています。低消費電力、広い動作電圧、高い集積度等により、あらゆる電機・電子機器に組み込まれ、ダウンサイジングや電池による長時間動作の実現に欠かせないテクノロジーです。
コンピューティングに必要な演算回路はすべてCMOS回路で成り立っています。コンピューター・サーバーに用いるNVIDIAのGPUは数百億のCMOS素子が集積されたデバイスであり、これの出現によって、生成AIの商用化が加速されました。また、スマホやパソコン、スマートウォッチもCMOSデバイスの進化が支えています。今一度CMOSの歴史と進化、基本機能、活用事例、そして今後の展開を見てみましょう。
★2025年11月13日WEBオンライン開講。【関西学院大学・教授:大谷氏】が、半導体前工程で重要となるSiCのバルク結晶成長からウェハ加工、薄膜技術まで、最近の開発動向と今後の展望を解説する講座です。
■本講座の注目ポイント講演日以降でもアーカイブ視聴可能です(11/17~12/22の期間)
SiC単結晶の製造と加工、信頼性を向上させるエピタキシャル薄膜成長技術など、SiC単結晶ウェハに関する基礎知識とビジネス展望を学べる講座です。SiC単結晶ウェハ開発において、今後取り組むべき課題や方針を示します。
★2025年11月20日、12月18日、2026年1月22日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社 鈴木 俊治 氏、沢田 憲一 氏、池永 和夫 氏が半導体産業と製造プロセス技術入門について解説する全3回の講座です。
■注目ポイント
★半導体材料の構造、CMOS LSIを中心にした半導体デバイスの作製プロセス技術について解説!
★半導体製造現場に求められるユーティリティ、品質管理、製品信頼性とは!?
★半導体パッケージに求められる機能、構造・種類およびパッケージに収納される組立てプロセスについて解説!
■予定スケジュール
※各講座は単回参加も可能です。単回参加をご希望の方は下記各講座HPよりお申込み下さい。
第1回:2025年11月20日(金) 10:00-17:00 講師:サクセスインターナショナル株式会社 鈴木 俊治 氏
→https://andtech.co.jp/seminars/1f0af102-38d8-60e0-9ba6-064fb9a95405
第2回:2025年12月18日(木) 13:30-16:30 講師:サクセスインターナショナル株式会社 沢田 憲一 氏
→https://andtech.co.jp/seminars/1f0af116-bb1f-6cd8-8f90-064fb9a95405
第3回:2026年1月22日(木) 13:30-16:30 講師:サクセスインターナショナル株式会社 池永 和夫 氏
→https://andtech.co.jp/seminars/1f0af122-e1d4-60ac-9328-064fb9a95405
★2025年11月20日WEBでオンライン開講。サクセスインターナショナル株式会社 鈴木 俊治 氏が半導体、及び、半導体デバイス製造プロセスについて解説する講座です。
■注目ポイント
★半導体の材料、その構造、物理など、基本的な内容について解説!
★CMOS LSIを中心に半導体デバイスの作製プロセス技術について学ぶ事ができる!
★2025年11月21日WEBオンライン開講。東京科学大学 ファム ナムハイ 氏が、強磁性半導体 最新開発状況 ~基礎と特長、世界最高スピン機能半導体デバイスの実現~について解説する講座です。
■本講座の注目ポイント
★半導体と磁性体の特徴を融合できる強磁性半導体は、磁性体の不揮発性を持ち併せたようなエネルギー使用効率が極めて高い半導体デバイスが実現できると期待される。本講演では、強磁性半導体の第一人者である東京科学大学のファムナムハイ先生に、これまでとこれからの強磁性半導体について講演いただきます。
★2025年11月25日WEBでオンライン開講。東京大学 霜垣氏が、【ALD(原子層堆積法)技術の最前線:基礎から最新動向まで】について解説する講座です。
■注目ポイント
★ALDの基礎から最前線までを一日で俯瞰(明日から使えるALD最適化知識を持ち帰れます)!
★2025年12月10日オンライン開講。【(元)村田製作所/(現)和田技術士事務所・代表:和田氏】が、積層セラミックコンデンサ(MLCC)の粉末合成から格子欠陥制御、長期信頼性について解説する講座です。
■本講座の注目ポイント
講演日以降でもアーカイブ視聴可能です(12/15~12/26の期間)
スマートフォンから車載電子機器まで幅広く利用されるMLCC。性能を左右するBTセラミック材料の合成法、組成設計、信頼性確保のポイントを解説します。内部電極との相互作用や故障メカニズムの理解を深め、実務に直結する開発・評価の知識を提供します。
★2025年12月12日WEBオンライン開講。【九州産業大学:平山氏】による、光インターコネクトにおける光導波路の役割と、ポリマー光導波路用感光性樹脂の材料設計ついて解説する講座です。
■本講座の注目ポイント
光通信やデータセンター分野で注目を集めるポリマー光導波路。本講演では、光インターコネクトや光回路部品への応用を見据えて、ポリマー光導波路に求められる特性と、感光性樹脂の材料設計を解説します。光導波路技術の基礎から応用までを理解できる講座です。